Krom (Cr) Sputtering Target
Krom (Cr) sputtering target, magnetron kaplama ve ince film çalışmaları için ölçü ve saflık şartlarına göre tedarik edilir. Çap, kalınlık, adet ve backing plate ihtiyacını belirtin. Katot / sistem bilgisi, özel geometri ve bonding şartları teklif öncesinde değerlendirilir.
Target ölçüsünü, saflığını ve backing plate seçimini yapın.
Teknik seçimleri tamamladıktan sonra ürünü ekleyin. Bilmediğiniz alanlar boş bırakılabilir; uygunluk, teslim süresi ve ticari koşullar teklifte doğrulanır.
Seçenekler ne anlama geliyor?
Kesin seçimi bilmiyorsanız teklif talebinde özel seçeneğini kullanın. Teknik ekip uygulamaya göre gerekli bilgileri netleştirir.
Saflık
Target malzemesindeki ana element veya bileşiğin belirtilen minimum oranı.
Backing plate
Targetın mekanik destek ve ısı transferi için bağlandığı, genellikle OFHC bakır arka plaka.
Bonding
Target ile backing plate arasındaki termal ve mekanik birleştirme işlemi.
Teknik şartnameye göre ürün tedariki; uygunluk ve teslim süresi teklifte doğrulanır.
Analiz belgesi, teknik çizim veya test raporu gerekiyorsa talebinize ekleyin. Sağlanabilecek belgeler ürüne ve teslimat kapsamına göre teklifte belirtilir.
Yalnızca ürün adını değil, ihtiyacı tanımlayın.
Krom (Cr) Sputtering Target nasıl seçilir?
Ürünü uygulamanıza göre tanımlayın. Teknik şartname, bulunabilirlik ve teslim süresi teklif aşamasında doğrulanır.
Target ölçüsünü mevcut katotla eşleştirin; standart dışında çizim veya ölçü tarifi gönderin.
İstenen saflık ve dokümantasyon şartını teklif talebinde belirtin.
Cr evaporation malzemesi target ile aynı ürün değildir; prosese uygun ürün ailesini seçin.
Prosesin gereksinimleri esas alınır.
Çizimi, hedef değeri veya proses koşulunu gönderin.
Teknik ekibimiz teklif öncesinde uygulanabilir tedarik konfigürasyonunu değerlendirecektir.