
ITO Kaplı İletken Cam
Seçilebilir yüzey direncine sahip şeffaf iletken ITO cam.
- Yüzey direnci
- Tipik 5–100 Ω/sq; uygunluk teklifte doğrulanır
- Kalınlık
- 0.4–3 mm
Özel vakum odası tasarımı ve üretimi; vakum bağlantıları, waferlar, kaplama hedefleri ve iletken camların teknik tedariki.
Özel proses vakum odaları, KF–CF–ISO bağlantı elemanları, viewportlar, körükler ve sistem entegrasyonu.
Vakum bölümüne git →02 · YARI İLETKEN MALZEMELERWaferlar, sputtering targetlar, evaporation malzemeleri, iletken camlar ve yüksek saflıkta araştırma malzemeleri.
Yarı iletken bölümüne git →Ürün ailesini seçin, teknik özellikleri belirtin ve farklı gruplardan ürünleri aynı teklif listesinde birleştirin.
Si, SiO₂, GaAs, GaSb, GaN, SiC ve safir altlıklar.
Ürün ailesini görüntüle ↗
Metal, alaşım ve seramik targetlar; ölçü, saflık ve arka plaka seçimi.
Ürün ailesini görüntüle ↗
Yüzey direnci ve kesim ölçüsüne göre ITO / FTO kaplı camlar.
Ürün ailesini görüntüle ↗
Saflık, form ve miktara göre MBE kaynak malzemeleri.
Ürün ailesini görüntüle ↗
Seçilebilir yüzey direncine sahip şeffaf iletken ITO cam.
Prime, test ve araştırma sınıfı tek kristal silikon altlıklar.

KF16, KF25, KF40, KF50 ölçülerinde vakum uyumlu KF Vakum Kelepçesi.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Titanyum (Ti) Sputtering Target.

Adesis; ince film, plazma, optik test ve özel Ar-Ge prosesleri için paslanmaz çelik vakum odaları tasarlar ve üretir. Oda hacmi, kapak yapısı, port yerleşimi, feedthroughlar, viewportlar, pompalama hattı ve cihaz bağlantıları proje başlangıcında birlikte değerlendirilir.
KF, CF ve ISO bağlantı elemanları, viewport ve esnek elemanlar tekil ürün olarak veya mühendisliği yapılmış sistemlere entegre şekilde sunulur.





Malzeme, geometri, yüzey ve uygulama.
Teknik ekip istenen özellikleri değerlendirir.
Analiz belgesi ve sevkiyat evrakları.
Türkiye'den DAP veya EXW sevkiyat.
Müşteri, proje ve üretim fotoğrafları gizlilik yükümlülükleri nedeniyle paylaşılmaz. Aşağıdaki örnekler Adesis'in değerlendirdiği tipik teknik kapsamları açıklar.
Çoklu kaynak portu, substrate hareketi, viewport, gaz girişi ve pompalama arayüzlerinin birlikte tanımlanması.
Net açıklık, pencere malzemesi, ışın yolu, termal yük ve enstrümantasyon portlarının değerlendirilmesi.
Değiştirilebilir port düzeni, servis erişimi, sensör geçişleri ve gelecekteki entegrasyonlar için mekanik rezerv.