
Alüminyum (Al) Sputtering Target
PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum (Al) Sputtering Target.
- Çap
- 2", 3", 4", 6" and custom
- Saflık
- Malzemeye bağlı %99,9–%99,999; uygunluk teklifte doğrulanır
72 yaygın metal, alaşım ve bileşik target için teknik ürün sayfası oluşturuldu. Saflık, çap, kalınlık, yoğunluk ve backing plate gereksinimine göre seçim yapabilir; listede olmayan kompozisyon veya özel geometri için de teklif isteyebilirsiniz.
Element adı, formül veya ürün koduyla doğrudan arayın.
Ürün sayfasında çap, kalınlık, saflık ve backing plate seçin.
Listede yoksa mevcut ürüne zorlamayın; teknik notla özel RFQ gönderin.
Tüm standart target aileleri bu katalogda aranabilir ve aynı çoklu teklif listesine eklenebilir. Listede olmayan kompozisyon ve özel geometriyi teknik notlarla iletebilirsiniz.
Yaygın geçiş metalleri, yarı iletken elementler ve değerli metaller.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum (Al) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Titanyum (Ti) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Bakır (Cu) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Krom (Cr) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Nikel (Ni) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Kobalt (Co) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Demir (Fe) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Molibden (Mo) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Tungsten (W) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Tantal (Ta) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Niyobyum (Nb) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Zirkonyum (Zr) Sputtering Target.
İkili ve çok elementli kompozisyonlar; oran ve tolerans değerlendirmesiyle.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Nikel Krom (NiCr) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Titanyum Alüminyum (TiAl) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum Bakır (AlCu) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Demir Kobalt (FeCo) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Bakır Galyum (CuGa) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta İndiyum Kalay (InSn) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Nikel Demir (NiFe) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Kobalt Krom (CoCr) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Kobalt Demir Bor (CoFeB) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Titanyum Tungsten (TiW) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum Silisyum (AlSi) Alaşım Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Bakır İndiyum Galyum (CuInGa) Alaşım Target.
RF ve reaktif sputtering uygulamaları için oksit, nitrür, karbür ve kompozitler.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta ITO Seramik Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum Katkılı Çinko Oksit (AZO) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Çinko Oksit (ZnO) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Silisyum Dioksit (SiO₂) Sputtering Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum Oksit (Al₂O₃) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Titanyum Dioksit (TiO₂) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Hafniyum Oksit (HfO₂) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Tantal Oksit (Ta₂O₅) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Niyobyum Oksit (Nb₂O₅) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Silisyum Nitrür (Si₃N₄) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Alüminyum Nitrür (AlN) Target.

PVD ve ince film kaplama için yüksek saflıkta Titanyum Nitrür (TiN) Target.